Nghiên cứu chiều dày lớp phủ Plasma vật liệu gốm Al2O3 – TiO2 bằng phương pháp kim tam học
Tác giả: Vũ Dương, Nguyễn Thanh Tùng629.8
Số trang:
Tr. 41-50
Số phát hành:
Số 03(52)
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
629.8
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Plasma, kỹ thuật số, phương pháp kim tam học
Tóm tắt:
Bài báo giới thiệu kết quả thực nghiệm xác định chiều dày lớp phủ plasma từ bột phun hệ gốm trên bề mặt thép nền các bon C45 trong quy mô phòng thí nghiệm bằng phương pháp kim tương học, sử dụng kính hiển vi quang học 25 Mat có tích hợp phần mềm phân tích ảnh kỹ thuật số.
Tạp chí liên quan
- Nâng cao hiệu quả nhận dạng các tham số dao động dựa trên kỹ thuật tách nguồn mù
- Thăng giáng exciton ngưng tụ của hệ điện tử - lỗ trống mất cân bằng khối lượng
- Nghiên cứu số về phương pháp bias điện áp sử dụng trong giảm dòng nhiệt thông tới bề mặt kim loại
- Numerical study on sheath formation near materials using Particle-In-Cell simulation = Nghiên cứu số về sự hình thành lớp vỏ bọc điện thế gần bề mặt kim loại sử dụng phương pháp mô phỏng Particle-In-Cell
- Port-Hamiltonian modelling of two kinds of electrical circuits = Mô hình hóa Hamilton của hai kiểu mạch điện