ProQuest Central
CSDL Springer
CSDL IEEE
Digital Library Network
Stinet
NXB Xây Dựng
SÁCH THEO CHỦ ĐỀ
SÁCH THEO CHỦ ĐỀ
SÁCH CHUYÊN NGÀNH
SÁCH CHUYÊN NGÀNH
Bạn đọc tiêu biểu

CSDL sách

Trở về
Hiển thị Marc
.jpg
  • Materials and processes for next generation lithography
  • Frontiers of nanoscience
  • Tác giả: Alex Robinson, Richard Lawson
  • Nhà xuất bản: Elsevier Science - San Diego
  • Năm xuất bản: 2016
  • Số trang:636 p.
  • Kích thước:26 cm.
  • Số đăng ký cá biệt:49505
  • ISBN:9780081003541
  • Mã Dewey:621.83153
  • Đơn giá:0
  • Vị trí lưu trữ:03 Quang Trung
  • Ngôn ngữ:English
  • Loại tài liệu:Sách Chuyên ngành
  • Đang rỗi/ Tổng sách:2/2
  • Từ khóa:Microlithography, photoresists
  • Chủ đề: Microlithography & Photoresists
  • Chuyên ngành: Khoa Điện - Điện tử
  • Tóm tắt: As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography.
  • Sách điện tử:http://thuvienso.duytan.edu.vn/handle/123456789/307271
Sách cùng chuyên ngành