Sử dụng từ trường có dạng tập trung trong điều khiển dòng hạt plasma
Tác giả: Lê Thị Quỳnh Trang
Số trang:
Tr. 18-24
Số phát hành:
Số 3(70)
Kiểu tài liệu:
Tạp chí điện tử
Nơi lưu trữ:
CSDL điện tử
Mã phân loại:
530.01
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Từ trường tập trung, dòng hạt plasma, thông lượng, nhiệt thông
Chủ đề:
Vật liệu từ nhiệt
Tóm tắt:
Từ trường có dạng tập trung, đảo ngược có thể dùng để điều khiển sự dịch chuyển dòng hạt plasma trong các thiết bị từ. Để hiểu sâu hơn về phương pháp này, những độ lớn khác nhau của từ trường có dạng tập trung này được nghiên cứu. Hệ mô phỏng được xây dựng dựa trên mô hình Particle-in-Cell. Hệ bao gồm các dòng hạt electron và ion. Kết quả cho thấy mối liên hệ mật thiết giữa độ lớn của từ trường có dạng tập trung và mật độ, thông lượng của các hạt plasma khi tiến tới bề mặt kim loại.
Tạp chí liên quan
- Bước đầu khảo sát đặc điểm biến thể xoang tĩnh mạch sọ não trên MRI ở bệnh nhân đau đầu mạn tính
- Độ sâu xâm lấn trên cộng hưởng từ và tình trạng di căn hạch cổ ở ung thư lưỡi
- U thận chứa mỡ ở trẻ em: Báo cáo ca bệnh u quái thận nguyên phát và u nguyên bào thận dạng quái
- Đánh giá độ dày xương và mô mềm khẩu cái trên phim CBCT (Cone-Beam Computed Tomography)
- Nhận thức về vi-rút HPV của sinh viên y dược: Từ những hiểu lầm về phòng bệnh đến sự thiếu hụt kiến thức ở nam giới





