Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Nghiên cứu lan truyền ô nhiễm không khí do hoạt động dòng xe tại nút giao Giảng Võ - Láng Hạ - Đê La Thành
- Nghiên cứu cơ chế hấp phụ và tán xạ Raman tăng cường bề mặt của formaldehyde
- Ảnh hưởng của áp suất đến tần số Einstein, nhiệt độ Einstein và hệ số Debye-Waller phổ EXAFS của kim loại kẽm
- Ảnh hưởng của kích thước đến nhiệt độ nóng chảy và nhiệt độ Debye của các hạt nano Ni
- Mô phỏng Particle-in-Cell cho phương pháp sử dụng các tia điện nhằm giảm dòng nhiệt tới bề mặt kim loại





