Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Tác động biến đổi khí hậu đến sự phát triển bền vững của Việt Nam
- Giảm thiểu ngập úng cho các đô thị vùng Đồng bằng sông Hồng trong điều kiện biến đổi khí hậu đảm bảo phát triển bền vững
- Mô hình xử lý chất thải rắn hữu cơ tại nguồn nhằm giảm thiểu phát thải khí nhà kính gây biến đổi khí hậu
- Đánh giá tiềm năng sản xuất khí sinh học từ phế phụ phẩm ngành chế biến rau quả tại Việt Nam
- Mô hình khai thác, sử dụng hè phố để phát triển du lịch, kinh tế đô thị bền vững tại Thủ đô Hà Nội