Sử dụng từ trường có dạng tập trung trong điều khiển dòng hạt plasma
Tác giả: Lê Thị Quỳnh Trang
Số trang:
Tr. 18-24
Số phát hành:
Số 3(70)
Kiểu tài liệu:
Tạp chí điện tử
Nơi lưu trữ:
CSDL điện tử
Mã phân loại:
530.01
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Từ trường tập trung, dòng hạt plasma, thông lượng, nhiệt thông
Chủ đề:
Vật liệu từ nhiệt
Tóm tắt:
Từ trường có dạng tập trung, đảo ngược có thể dùng để điều khiển sự dịch chuyển dòng hạt plasma trong các thiết bị từ. Để hiểu sâu hơn về phương pháp này, những độ lớn khác nhau của từ trường có dạng tập trung này được nghiên cứu. Hệ mô phỏng được xây dựng dựa trên mô hình Particle-in-Cell. Hệ bao gồm các dòng hạt electron và ion. Kết quả cho thấy mối liên hệ mật thiết giữa độ lớn của từ trường có dạng tập trung và mật độ, thông lượng của các hạt plasma khi tiến tới bề mặt kim loại.
Tạp chí liên quan
- Phân tích dao động của tấm Sandwich Nano Graphene đàn hồi-điện-từ đặt trên nền đàn hồi Winkler-Pasternak
- Phân tích tĩnh tấm FGM có vi bọt rỗng trên nền đàn hồi dưới tác dụng tải trọng cơ học, nhiệt độ và độ ẩm theo lý thuyết biến dạng cắt bậc nhất
- Vật liệu từ nhiệt và công nghệ làm lạnh bằng từ trường