Sử dụng từ trường có dạng tập trung trong điều khiển dòng hạt plasma
Tác giả: Lê Thị Quỳnh Trang
Số trang:
Tr. 18-24
Số phát hành:
Số 3(70)
Kiểu tài liệu:
Tạp chí điện tử
Nơi lưu trữ:
CSDL điện tử
Mã phân loại:
530.01
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Từ trường tập trung, dòng hạt plasma, thông lượng, nhiệt thông
Chủ đề:
Vật liệu từ nhiệt
Tóm tắt:
Từ trường có dạng tập trung, đảo ngược có thể dùng để điều khiển sự dịch chuyển dòng hạt plasma trong các thiết bị từ. Để hiểu sâu hơn về phương pháp này, những độ lớn khác nhau của từ trường có dạng tập trung này được nghiên cứu. Hệ mô phỏng được xây dựng dựa trên mô hình Particle-in-Cell. Hệ bao gồm các dòng hạt electron và ion. Kết quả cho thấy mối liên hệ mật thiết giữa độ lớn của từ trường có dạng tập trung và mật độ, thông lượng của các hạt plasma khi tiến tới bề mặt kim loại.
Tạp chí liên quan
- Ảnh hưởng của bức xạ gamma đến tính chất quang của chấm lượng tử CdSe
- Ảnh hưởng của độ dày lớp điện môi lên trạng thái ngưng tụ exciton trong cấu trúc graphene hai lớp
- Đánh giá tình hình nhiễm vi khuẩn Escherichia Coli, Salmonellas spp. trên thịt lợn tại một số chợ trọng điểm trên địa bàn thành phố Quy Nhơn, tỉnh Bình Định
- Efficient, column-chromatography-free synthesis of Dipterocarpol succinate oxime ester salts
- Nodal basis functions in p-adaptive finte element methods



