Nghiên cứu số về phương pháp bias điện áp sử dụng trong giảm dòng nhiệt thông tới bề mặt kim loại
Tác giả: Lê Thị Quỳnh Trang
Số trang:
Tr. 148-154
Số phát hành:
Số 04(65)
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
621
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Bias điện áp, nhiệt thông, thông lượng, phương pháp mô phỏng Particle-in-cell
Chủ đề:
Điện áp
Tóm tắt:
Sử dụng mô hình mô phỏng Particle-in-Cell để nghiên cứu về việc giảm tải dòng nhiệt cao tới bề mặt kim loại bằng bias điện áp. Dòng electron và ion được bơm liên tục vào hệ và bị hấp thụ hoàn toàn tại bề mặt kim loại. Kết quả mô phỏng chỉ ra rằng, bias điện áp làm giảm thông lượng của plasma tới về mặt kim loại. Nhiệt thông của electron giảm trong khi nhiệt thông của ion lại tăng lên khi sử dụng bias điện áp âm.
Tạp chí liên quan
- Nghiên cứu ứng dụng hỗn hợp xỉ than, tro bay có gia cố xi măng làm lớp đáy móng trong kết cấu nền - mặt đường ô tô bằng phương pháp thí nghiệm
- Thiết kế chiếu sáng trong công trình kết cấu gỗ truyền thống : tôn vinh vẻ đẹp văn hóa và di sản
- Vẽ phác thảo - hình ảnh phản chiếu tư duy - quan điểm nhà thiết kế
- Đặc điểm kiến trúc hội quán của người Hoa tại khu phố cổ Hà Nội
- Nghiên cứu phát triển vật liệu không nung không cần xi măng - gạch lát vỉa hè từ vật liệu geopolymer