Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Nghiên cứu ảnh hưởng của biến dạng lên tính chất điện tử của vật liệu hai chiều đơn lớp MGe2N4 (M = Mo, W) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
- Tối ưu hóa các yếu tố vận hành quá trình keo tụ điện hóa xử lý nước thải cơ sở sản xuất miếng nhựa bằng phương pháp RSM
- Nghiên cứu thử nghiệm chế tạo vật liệu hấp phụ biocomposite từ sét kaolin
- Tính chất nhiệt phát quang của thủy tinh CaSO4-B2O3-RE2O3, khả năng ứng dụng trong đo liều bức xạ
- So sánh tính chất điện-từ của đơn lớp vật liệu CrPSe3 và CrPSe3 pha tạp Fe bằng phương pháp phiếm hàm mật độ