Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Mối liên quan giữa một số đặc điểm lâm sàng và giải phẫu bệnh của sarcôm tạo xương với dấu ấn SATB2
- Đặc điểm mô bệnh học và hóa mô miễn dịch sarcoma màng hoạt dịch tại Bệnh viện K
- Nghiên cứu dấu hiệu lâm sàng và đặc điểm giải phẫu bệnh của bệnh viêm da cơ
- Đánh giá biểu hiện của thụ thể androgen trên bệnh ung thư vú bộ ba âm tính bằng phương pháp hóa mô miễn dịch
- Nghiên cứu đặc điểm hoá mô miễn dịch của EGFR và các dấu ấn CK, p63, Vimentin trong ung thư biểu mô vú dị sản tại Bệnh viện K





