Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Khoa học và công nghệ phục vụ tăng trưởng xanh, kinh tế tuần hoàn, giảm phát thải khí nhà kính tại Việt Nam
- Máy tính lượng tử, cơ hội và thách thức đối với an toàn an ninh
- Trắc nghiệm thích ứng trên máy tính: Giải pháp mới đánh giá năng lực thí sinh
- Nghiên cứu hóa học về lipid và phát triển các chuỗi sản phẩm từ sinh vật biển Việt Nam
- Ứng dụng mô hình quản trị tinh gọn tích hợp số hóa dịch vụ khám chữa bệnh ngoại trú