Khảo sát sự phụ thuộc tính chất điện từ vào cấu trúc xếp chồng của vật liệu hai lớp Chromium trihalides – CrX3 (X = I, Cl, Br) bằng lý thuyết phiếm hàm mật độ
Tác giả: Trần Tuấn Anh
Số trang:
Tr. 81-89
Số phát hành:
Số 02 (57) - Tháng 4
Kiểu tài liệu:
Tạp chí trong nước
Nơi lưu trữ:
03 Quang Trung
Mã phân loại:
541
Ngôn ngữ:
Tiếng Việt
Từ khóa:
Chromium trihalide, vật liệu hai lớp nguyên tử, lý thuyết phiếm hàm mật độ, cấu trúc xếp chồng, tính chất từ
Chủ đề:
Hóa lý
Tóm tắt:
Báo cáo mối liên hệ giữa thứ tự xếp chồng và tính chất từ tính của hai lớp CrX3 bằng cách sử dụng lý thuyết phiếm hàm mật độ. Chỉ ra trật tự xếp chồng có thể làm thay đổi trạng thái nền từ tính. Bằng cách thay đổi trật tự sắp xếp giữa các lớp, người ta có thể điều chỉnh tương tác trao đổi giữa các lớp giữa phản sắt từ và sắt từ. Kết quả không chỉ đưa ra một lời giải thích khả dĩ cho sự thay đổi tính chất từ trong lớp kép CrX3 mà còn có ý nghĩa trong các cấu trúc dị thể làm vật liệu từ hai chiều.
Tạp chí liên quan
- Thực trạng phát triển kinh tế tư nhân ở Việt Nam : thành tựu, thách thức và triển vọng
- Những động lực giúp Việt Nam tăng trưởng 8% trong năm 2025 : thực trạng và giải pháp
- Đẩy mạnh giải ngân vốn đầu tư công đối với các dự án trong ngành đường sắt ở Việt Nam
- Nghiên cứu mối quan hệ giữa phân cấp tài khóa và chất lượng dịch vụ công tại Việt Nam
- Đánh giá tiềm năng xử lý các chất ô nhiễm vi lượng trong nước thải bằng thực vật