CSDL SÁCH

Khoa Điện - Điện tử

Duyệt theo:
.jpg

Lý thuyết điều khiển tự động thông thường và hiện đại : hệ tối ưu - hệ thích nghi

Tác giả: Nguyễn Thương Ngô

Chỉ tiêu chất lượng đánh giá chất lượng tối ưu. Phương pháp tổng hợp các hệ điều khiển thông thường nhằm đảm bảo cho hệ có chất lượng tối ưu. Điều khiển tối ưu. Đặc điểm chung các bài toán tối ưu. Khảo sát một số hệ cực trị và xây dựng các hệ cực trị khác nhau đối với điều khiển thích nghi.

  • Số tập: Q.4 : hệ tuyến tính
  • Phiên bản: In lần thứ 3 có sửa chữa bổ sung
  • Vị trí lưu trữ: 03 Quang Trung
  • Tổng sách: 8
  • Đang rỗi: 8
.jpg

Lý thuyết điều khiển tự động thông thường và hiện đại

Tác giả: Nguyễn Thương Ngô

Một số vấn đề về lý thuyết điều khiển tự động: đặc điểm của hệ gián đoạn nói chung cũng như hệ xung số nói riêng, các phương pháp khảo sát và tổn hợp hệ đã dùng ở hệ liên tục, các phương pháp trong miền tần số và miền thời gian..

  • Số tập: Q.2 : hệ xung số
  • Phiên bản: in lần thứ 3 có sửa chữa bổ sung
  • Vị trí lưu trữ: 03 Quang Trung
  • Tổng sách: 4
  • Đang rỗi: 4
.jpg

Lý thuyết điều khiển tự động thông thường và hiện đại

Tác giả: Nguyễn Thương Ngô

Khái niệm cơ bản về lí thuyết điều khiển tự động. Các tiêu chuẩn thường dùng như Hurwitz, Routh, Nyquist để khảo sát ổn định các hệ điều khiển. Phương pháp xác định cấu trúc và thông số các đối tượng. Khái niệm về chất lượng hệ điều khiển tự động. Tổng hợp các hệ điều khiển tự động. Phương pháp ...

  • Số tập: Q.1 : hệ tuyến tính
  • Phiên bản: In lần thứ 4 có sửa chữa bổ sung
  • Vị trí lưu trữ: 03 Quang Trung
  • Tổng sách: 4
  • Đang rỗi: 3
.jpg

Fab labs : innovative user : volume 5

Tác giả: Laure Morel, Serge Le Roux

These digital fabrication laboratories offer workshops to members of the public where all sorts of tools are available (including 3D printers, laser cutters and sanders) for the design and creation of personalized objects. The bringing together of various users (amateurs, designers, artists, ...

  • Vị trí lưu trữ: 03 Quang Trung
  • Tổng sách: 1
  • Đang rỗi: 0
.jpg

Materials and processes for next generation lithography

Tác giả: Alex Robinson, Richard Lawson

As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next ...

  • Vị trí lưu trữ: 03 Quang Trung
  • Tổng sách: 2
  • Đang rỗi: 2